progressus in technologia lithographia: ab 55nm ad 28nm, provocationes in fabricandis chip domestica

한어Русский языкEnglishFrançaisIndonesianSanskrit日本語DeutschPortuguêsΕλληνικάespañolItalianoSuomalainenLatina

sed fabricantes provocationes technicas praebent dum accuratas maiores et minores magnitudinum chippis consectantur. inter eos, deaurabis accuratio una clavium. etsi operies subtiliter machinarum lithographiae domesticae duv cum 65nm solutionis ≤8nm pervenerit, hoc solum vexillum officinarum est.

ex prospectu technico multiplex expositio una e clavis instrumentorum technicarum limitum erumpere potest. duplex et quadruplex detectio efficaciter operire et minuere ac consequi maiorem praecisionem ac minorem magnitudinem assequi potest. sed haec machina photographicam requirit ut accuratius deducatur ad accurationem plurium expositionum curandam.

e contra industria commoda asml nxt:1970 (mersa duv) et nxt: 1980 (mersa duv). hae duae machinae lithographiae in magna parte massae productionis 28um processuum habent et fabricatores praestantiore subtilitate et efficaciore facultate productionis praestant. sed hoc etiam ostendit diversos progressus technologiae industriae gradus.

artifices lithographiae domesticae etiam laborantes laborant ad hunc finem assequendum. transpositio ex siccis duv ad duv immersis momenti discrimen est, et technicae difficultates superandae sunt ad realem apertionem consequendam. asml primam machinam massae productae immersionem duv lithographiae xt: 1700i in 2006, canonem et nikonem superans et praecipuum locum in foro lithographiae machinae occupans.

in posterum artifices machinae lithographiae domesticae necesse erit ut dura laborare et arctam cooperationem cum competitoribus internationalibus tenere ut in global competition succedat. cum technologia progredi pergit, graviorem vim technologiam fabricandi videbimus ac potentiores effectus et applicationes missionum ad areas sicut intellegentiae artificialis, autonomae incessus, et cura medica.